清真寺双五好创建方案:第二十七章

第27章

集成电路布图设计专有权的保护

第1节

集成电路布图设计的法律保护模式

　　集成电路技术是信息产业的核心和国民经济信息化的基础。在社会、科学和国民经济各方面，集成电路正得到空前广泛地应用，这极大地推动了社会经济、文化的发展。集成电路产业，已经成为关系国家经济发展的战略性产业。发达国家高度重视集成电路工业,在20世纪70年代末就开始研究集成电路布图设计的法律保护问题。20世纪80年代，美国、日本和欧洲大陆许多国家相继颁布法律，保护布图设计权，将集成电路布图设计保护法作为知识产权法中的一个新的部门。我国在集成电路的法律保护上相对滞后。2001年10月1日，国务院公布的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）开始施行，这意味着我国半导体芯片知识产权法律保护终于步上正轨。

　　一、集成电路布图设计的含义以及特征

　　集成电路（Integrated circuit），又称为芯片。《条例》中的集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。集成电路通过将各种元件集成在一个固体材料中，形成一个整体单位来执行某种电子功能，这种集成缩小电路的尺寸,加快电路的工作速度，降低电路成本和功耗。应该看到，《条例》仅仅对半导体材料制成的芯片加以保护。尽管随着科技的发展，集成电路中所集成的元件除了由半导体材料制成的电子元器件外，还有光电子器件、生物芯片等等新的材料制成的元器件，但是无论发达国家的立法或者国际公约都将保护范围限定在"半导体"材料上。我国集成电路产业发展相对落后，因此不必超前立法。

　　所谓集成电路布图设计，简称布图设计（Layout Design），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。它实际上是处理在传导材料上，如何以几何图形方式排列和连接用以制造集成电路的电子元件，从而实现集成电路功能的问题。布图设计是制造集成电路产品中一个非常重要的环节。其特点有：

　　1、无形

　　布图设计可以被固定在掩膜或磁盘上,也可以被固定在集成电路产品中,但掩膜、磁盘或集成电路只是它的物质载体,布图设计本身是无形的。

　　2、研发投入高、复制成本低

　　布图设计的研究开发，往往需要投入大量的人力物力，成本很高；但是复制布图设计却很简单，例如通过拍摄集成电路的涂层就可以轻易的获得布图设计。因此通过提供法律保护以制止侵权行为就显得非常重要。

　　3、受保护的布图设计的创造性高于作品、低于专利

　　《条例》第4条规定："受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。"在这里，原创性的规定，显然是借鉴了著作权法对作品的要求。非常规性的规定，则类似专利新颖性的要求，但在创造高度上尚没有达到专利新颖性的标准。这是因为，作为一种提高集成电路功能的元件布局安排，其创造性只体现在集成程度上，而从这点上，很难出现专利法规定的"突出的实质性特点和显著的进步"，更不可能出现前所未有的布局安排。

　　二、集成电路布图设计的法律保护模式

　　布图设计的特性，使得单独的著作权法和专利法都无法加以包容。就著作权法而言，受保护的作品最主要是文艺科学领域作品，布图设计则具有很强的实用性，更接近于工业产权保护的客体；另外，作品自创作完成时自动取得保护，无须登记也无须经过审查，这无法适用于布图设计；再次，著作权法提供给作品的保护期很长，这与集成电路产业快速更新换代的特点不相配，不利于促进整个产业的发展。就专利法而言，如前所讲，布图设计无法达到专利技术所要求的创作高度，难以符合专利的新颖性要求；而且，专利申请审查时间比较长，同样不能适应集成电路产业快速更新换代的特点。因此，各国多在借鉴著作权法和专利法的基础上，采用专门立法的模式保护布图设计。

　　第一个制定专门法律对集成电路加以保护的国家是美国。1984年11月美国率先颁布实施《半导体芯片保护法》。美国版权法第九章是《半导体芯片保护法》，其保护的客体为"掩膜作品"（Mask Work）。

　　随后日本在1985年颁布了《半导体集成电路的线路布局法》（Act Concerning the Circuit Layout of A Semiconductor or Integrated Circuit），称其保护的客体为"线路布局"（Circuit Layout和Integrated Circuit ）。

　　此后，欧洲许多国家也相继制定了集成电路布图设计保护法。欧盟成员国包括英国、德国、荷兰、法国、丹麦、西班牙、奥地利、卢森堡、意大利、葡萄牙、比利时、匈牙利等称为拓朴图（topographies）或(Layout Design)

　　1989年5月26日，世界知识产权组织在美国华盛顿通过了《关于集成电路的知识产权条约》（以下简称华盛顿条约），对集成电路知识产权保护作了专门规定。尽管华盛顿条约至今尚未生效，但世界贸易组织《与贸易有关的知识产权协议》（TRIPs）吸收了有关的规定，在其第二部分"关于知识产权有效性、范围和使用的标准"第六节中明确要求保护布图设计。

　　我国在1989年成为华盛顿条约的签字国，此后，政府开始组织集成电路布图设计立法和相应的研究工作，但由于各种原因，一直没有制定这方面的法律。直到2001年，我国正式成为WTO的成员国，承担着实施TRIPs协议的国际义务后，国务院才于2001年10月1日公布并开始施行《条例》。